455-0036/01 – Manufacturing of microelectronic devices (VMP)

Gurantor departmentDepartment of Measurement and ControlCredits4
Subject guarantordoc. Ing. Milan Hutyra, CSc.Subject version guarantordoc. Ing. Milan Hutyra, CSc.
Study levelundergraduate or graduateRequirementChoice-compulsory
YearSemestersummer
Study languageCzech
Year of introduction1992/1993Year of cancellation2002/2003
Intended for the facultiesFEIIntended for study typesMaster
Instruction secured by
LoginNameTuitorTeacher giving lectures
HUT90 doc. Ing. Milan Hutyra, CSc.
Extent of instruction for forms of study
Form of studyWay of compl.Extent
Full-time Credit and Examination 2+2

Subject aims expressed by acquired skills and competences

Teaching methods

Summary

Microtechnology brings about basic changes in research and development of new generation of electronic elements both for processing of electric signal and for microelectronic sensors . The subject is dedicated to the area: materials for microelectronic devices manufacturing, basics of solid state technoloy , assembly of microeletronic devices, diagnostic method used in manufacturing of microeletronic devices, basic structure of IC´s and microelectronic sensors

Compulsory literature:

Recommended literature:

Way of continuous check of knowledge in the course of semester

E-learning

Other requirements

Prerequisities

Subject has no prerequisities.

Co-requisities

Subject has no co-requisities.

Subject syllabus:

Přednášky: Postavení a úloha technologie při výrobě mikroelektronických součástek. Základní rozdělení mikroelektronických postupů. Mikroelektronické technologie na bázi Si. Základy fyziky polovodičů. Základní struktury monolitických integrovaných obvodů. Bipolární technologie planárně epitaxní, izoplanární ,CDI . Unipolární technologie, CMOS technologie. Technologie BiCMOS Materiály pro výrobu mikroelektronických prvků, dočišťování pro účely použití v polovodičovém průmyslu. Čisté prostory. Vlastnosti a technologie přípravy polovodičových materiálů. Výroba polykrystalu a monokrystalu Si. Výroba křemíkových substrátů určených pro výrobu IO. Základní technologické procesy vytváření struktur mikroelektronických součástek. Fyzikální a chemické metody přípravy tenkých vrstev. Epitaxní růst. Depozice CVD. Metody dotování vrstev. Termická difuze, iontová implantace. Metody tvarování vrstev. Litografické techniky. Chemické metody leptání vrstev. Plasmatické a iontové leptání vrstev. Měření ve výrobě struktur polovodičových součástek. Mezioperační měření. Měření testovacích struktur. Hrotové měření čipů polovodičových součástek. Montáž systémů integrovaných obvodů do pouzder. Pouzdření na úrovní čipů. Pouzdření na úrovni multičipových modulů Zajišťování spolehlivosti mikroelektronických součástek . Třídíci postupy. Ověřování spolehlivosti. Metodologie návrhu IO. Modelování prvků. Modelování procesů. Technologie výroby mikroelekronických senzorů. Laboratoře: Základní výpočty z fyziky polovodičů: počet atomů v jednotce objemu, koncentrace elektronů a děr, měrný odpor polovodiče. Základy výpočty z fyziky polovodičů: poloha Fermiho hladiny, pohyblivost nosičů. Měření základních fyzikálních vlastností polovodičů Odborné časopisy z oblasti technologie výroby mikroelektronických prvků Odborné časopisy z oblasti technologie výroby mikroelektronických prvků - pokračování. Školící materiály Tesla Sezam - Od křemene ku křemíku Školící materiál Tesla Sezam - Bipolární technologie část I Školící materiál Tesla Sezam - Bipolární technologie část II 9.-14. Exkuze v Tesla Sezam na pracoviště výroby čipů IO a na montáž polovodičových prvků. (Realizováno jako soustředěna výuka ke konci semestru)

Conditions for subject completion

Full-time form (validity from: 1960/1961 Summer semester)
Task nameType of taskMax. number of points
(act. for subtasks)
Min. number of pointsMax. počet pokusů
Exercises evaluation and Examination Credit and Examination 100 (145) 51 3
        Examination Examination 100  0 3
        Exercises evaluation Credit 45  0 3
Mandatory attendence participation:

Show history

Conditions for subject completion and attendance at the exercises within ISP:

Show history

Occurrence in study plans

Academic yearProgrammeBranch/spec.Spec.ZaměřeníFormStudy language Tut. centreYearWSType of duty
2002/2003 (M2612) Electrical Engineering and Computer Science (2601T004) Measurement and Control Engineering P Czech Ostrava Choice-compulsory study plan
2002/2003 (M2612) Electrical Engineering and Computer Science (2612T018) Electronics and Communication Technology P Czech Ostrava Choice-compulsory study plan
2002/2003 (M2612) Electrical Engineering and Computer Science (2642T004) Electrical Machines, Apparatus and Drives (10) Elektrické stroje a přístroje P Czech Ostrava Choice-compulsory study plan
2002/2003 (M2612) Electrical Engineering and Computer Science (2642T004) Electrical Machines, Apparatus and Drives (20) Elektrické pohony a výkonová elektronika P Czech Ostrava Choice-compulsory study plan
2002/2003 (M2612) Electrical Engineering and Computer Science (3902T023) Computer Science P Czech Ostrava Choice-compulsory study plan
2002/2003 (M2612) Electrical Engineering and Computer Science (3907T001) Electrical Power Engineering P Czech Ostrava Choice-compulsory study plan
2002/2003 (M2612) Electrical Engineering and Computer Science (2601T004) Measurement and Control Engineering P Czech Ostrava 3 Optional study plan

Occurrence in special blocks

Block nameAcademic yearForm of studyStudy language YearWSType of blockBlock owner

Assessment of instruction

Předmět neobsahuje žádné hodnocení.