455-0901/01 – Výroba mikroelektronických prvků (VMP)
Garantující katedra | Katedra měřicí a řídicí techniky | Kredity | 0 |
Garant předmětu | doc. Ing. Milan Hutyra, CSc. | Garant verze předmětu | doc. Ing. Milan Hutyra, CSc. |
Úroveň studia | postgraduální | Povinnost | povinně volitelný |
Ročník | | Semestr | zimní + letní |
| | Jazyk výuky | čeština |
Rok zavedení | 1995/1996 | Rok zrušení | 2009/2010 |
Určeno pro fakulty | FEI | Určeno pro typy studia | doktorské |
Cíle předmětu vyjádřené dosaženými dovednostmi a kompetencemi
Cílem předmětu Výroba mikroelektronických prvků je posluchače seznámit se základními technologickými operacemi a postupy využívanými ve výrobě mikroelektronických součástek (integrované obvody, mikroelektronické senzory apod.)
Studující PGS si v tomto předmětu rozšíří znalosti v oblasti výroby mikroelektronických prvků .
Vyučovací metody
Anotace
V předmětu Výroba mikroelektronických prvků se posluchači seznámí se základními
technologickými operacemi a postupy využívanými ve výrobě mikroelektronických
součástek (integrované obvody, mikroelektronické senzory apod.)
Předmět je věnován oblastem příprava čistých materiálů pro polovodičový průmysl
základní technologické operace používané ve výrobě mikroelektronických
součástek (MS)diagnostické metody používané ve výrobě MS technologie struktur
bipolárních a unipolárních integrovaných obvodů.
Povinná literatura:
Matějka, Brzobohatý:Technologie mikroelektronických obvodů(skriptum VUT FEI Brno 1984)
Matějka, Brzobohatý:Technologie materiálů (skriptum VUT FEI Brno 1984)
Musil a kol. :Technologické procesy a jejich modelování(skriptum VUT FEI Brno 1989)
Těchnologija SBIS 1a2,Moskva "Mir"1986 (překlad z angličtiny VLSI Technology-edited by S.M.Sze,McGraw-Hill Book Comp.1983)
A.S.Grove :Physics and Technology of Semiconductor Devices, John Wiley and Sons Inc. 1967
S.Wolf, R.N.Tauber : Silicon Processing for VLSI Era,vol 1, Lattice Press 1986
Doporučená literatura:
Forma způsobu ověření studijních výsledků a další požadavky na studenta
E-learning
Další požadavky na studenta
Prerekvizity
Předmět nemá žádné prerekvizity.
Korekvizity
Předmět nemá žádné korekvizity.
Osnova předmětu
Přednášky:
Vlastnosti a technologie přípravy polovodičových materiálů.Materiály pro výrobu mikroelektronických prvků, dočišťování pro účely použití v polovodičovém průmyslu. Čisté prostory.
Základní technologické procesy vytváření struktur MS. Fyzikální a chemické metody přípravy tenkých vrstev.Epitaxní růst.
Metody dotování vrstev.Termická difuze.Iontová implantace.
Metody tvarování vrstev.Litografické techniky.Chemické metody leptání vrstev.Plasmatické metody leptání vrstev.
Montáž systémů do pouzder.Třídicí postupy.Zajišťování spolehlivosti MS.Diagnostické metody ve výrobě MS.
Technologie struktur bipolárních a unipolárních IO. Planární technologie, technologie isoplanár, I2L, IMPACT, NMOS, PMOS, CMOS, BiCMOS.
Technologie výroby mikroelektronických senzorů.
Podmínky absolvování předmětu
Výskyt ve studijních plánech
Výskyt ve speciálních blocích
Hodnocení Výuky
Předmět neobsahuje žádné hodnocení.