637-0824/01 – Nanotechnology in microelectronics (KMME)

Gurantor departmentDepartment of Non-ferrous Metals, Refining and RecyclingCredits5
Subject guarantorprof. Ing. Jaromír Drápala, CSc.Subject version guarantorprof. Ing. Jaromír Drápala, CSc.
Study levelundergraduate or graduateRequirementChoice-compulsory
Year1Semestersummer
Study languageCzech
Year of introduction2007/2008Year of cancellation2008/2009
Intended for the facultiesUSPIntended for study typesFollow-up Master
Instruction secured by
LoginNameTuitorTeacher giving lectures
DRA30 prof. Ing. Jaromír Drápala, CSc.
Extent of instruction for forms of study
Form of studyWay of compl.Extent
Full-time Credit and Examination 2+2

Subject aims expressed by acquired skills and competences

Teaching methods

Summary

Compulsory literature:

Recommended literature:

Way of continuous check of knowledge in the course of semester

E-learning

Other requirements

Prerequisities

Subject has no prerequisities.

Co-requisities

Subject has no co-requisities.

Subject syllabus:

Náplň přednášek: 1. Úvod, definice a rozdělení nanotechnologií. Vztah mikrotechnologií a nanotechnologií. Základní charakteristika a požadavky na mikro- a nanoelektronické materiály. Technologie přípravy fyzikálně a chemicky vysoce čistých materiálů. Fyzikální, chemické a fyzikálně chemické metody rafinace kovových i nekovových materiálů a jejich charakterizace. 2. Metody přípravy vysoce čistých a strukturně definovaných materiálů s monokrystalickou strukturou pro nové typy elektronických, optoelektronických a magnetických prvků. Vliv elektricky aktivních prvků na vlastnosti elektronických součástek. 3. Základní procesy a materiály I. Soudobé nanotechnologie polovodičových materiálů a integrovaných obvodů, celková struktura nanotechnologiíí aplikovaných v mikroelektronice, evoluce a druhy technologií, příprava podložek (substrátů), základy fotolitografie, základní materiály používané při tvorbě struktury polovodičových prvků. 4. Základní procesy a materiály II. Elementární polovodiče a polovodičové sloučeniny dielektrické nanovrstvy a metody jejich vytváření, kovové kontakty a vnitřní spoje, mikrolegování, technologické defekty polovodičových prvků, principy kontroly a automatizace technologických procesů. 5. Vliv geometrických rozměrů na vlastnosti pevných látek I. Vlastnosti nanokrystalů a krystalizačních zárodků, základní etapy tvorby nanovrstev a oblasti jejich použití, rozměrové efekty ve struktuře elektronických prvků 6. Vliv geometrických rozměrů na vlastnosti pevných látek II. Miniaturizace a topologie elektronických prvků, nanotechnologické operace a funkční vlastnosti součástek, mechanismy degradace elektronických prvků. 7. Mechanismy nerovnovážných procesů tvorby nanostruktury I. Klasifikace teoretických modelů krystalizace, kvazirovnovážné a kinetické modely, kineticko-statistický model tvorby vrstev z molekulárních svazků, mechanismus růstu nanovrstev s účastí chemických reakcí (CVD, MO CVD, ). 8. Mechanismy nerovnovážných procesů tvorby nanostruktury II. Mechanismus elementárních procesů růstu nanovrstev epitaxí, napařováním, naprašováním a iontovou implantací, mechanismy difuzních procesů v polovodičích. 9. Nanoelektronika I. Princip selektivity a postupů nanotechnologických operací. Základní kritéria hodnocení lokálních operací, metody vytváření výchozího topologického obrazce na podložce, maskování, lokálně aktivované operace, topologické přeměny a vytváření dodatečných prvků struktury pomocí selektivních operací. 10. Nanoelektronika II. Vytváření horizontálního členění struktur. Litografické metody. EUV litografie, elektronová a iontová projekční litografie. Reaktivní iontové leptání. Vytváření vertikálních nanometrových struktur. Epitaxní metody. Epitaxe molekulárních svazků, epitaxe z organokovů. Technologie přípravy kvantových teček na bázi polovodičů. 11. Nanoelektronika III. Finální operace, fyzikální metody kontroly defektů, kompozice a obvody lokálních operací, principiální podmínky úplného odstranění mechanických spojů. Mmetody LP CVD, LE CVD, PETEOS. Mikrofabrikace a nanofabrikace. Nanosoučástky. Návrh nanotranzistoru, fyzikální modelování. 12. Nanomateriály I. Nanooptoelektronika, sloučeniny AIIIBY, AIIBVI…, materiály pro laserovou techniku, detektory záření, solární technika. 13. Nanomateriály II. Magnetické a dielektrické materiály. Oxidické materiály pro paměťové prvky (ferity, feroelektrika), materiály pro bublinové paměti (granáty). 14. Nanomateriály III. Kapalné krystaly. Nematické, lamelární a kolumnární systémy - struktura a její transformace, materiály pro zvláštní účely, whiskery. Náplň cvičení: 1. Úvod. Individuální zadání seminární práce. Základní pojmy z oblasti nanostrukturních materiálů pro elektroniku. 2. Termodynamika fázových rovnováh v binárních systémech, interakce prvků, interakční koeficient – program 1 3. Modelování procesů krystalizace na PC – program 2. 4. Epitaxní technologie tvorby nanovrstev, jejich charakterizace – program 3. 5. Difuzní technologie a jejich aplikace při tvorbě přechodů P-N, reakční difuze – vznik nových fází. 6. Fyzikální modelování samoorganizace v koloidních systémech, metoda sol-gel. 7. Difuzí limitovaný růst fraktálu – laboratorní úloha – program 4. 8. Test č. 1, odborný film z oblasti nanotechnologie a mikroelektronika. 9. Měření parametrů mikroelekronických prvků – laboratorní úloha – program 5. 10. Studium mechanických vlastností nanomateriálů při aplikaci indentoru. 11., 12. Exkurze do ON Semiconductor Czech Republic, a.s., Rožnov pod Radhoštěm – moderní technologie výroby mikroelektronických prvků – 3 h. 13. Test č. 2, obhajoba seminárních prací. 14. Obhajoba seminárních prací, udělení zápočtů.

Conditions for subject completion

Full-time form (validity from: 1960/1961 Summer semester)
Task nameType of taskMax. number of points
(act. for subtasks)
Min. number of pointsMax. počet pokusů
Exercises evaluation and Examination Credit and Examination 100 (100) 51 3
        Exercises evaluation Credit 45 (45) 0 3
                Project Project 15  0 3
                Written exam Written test 20  0 3
                Other task type Other task type 10  0 3
        Examination Examination 55 (55) 0 3
                Written examination Written examination 25  0 3
                Oral Oral examination 30  0 3
Mandatory attendence participation:

Show history

Conditions for subject completion and attendance at the exercises within ISP:

Show history

Occurrence in study plans

Academic yearProgrammeBranch/spec.Spec.ZaměřeníFormStudy language Tut. centreYearWSType of duty
2007/2008 (N3942) Nanotechnology (3942T001) Nanotechnology P Czech Ostrava 1 Choice-compulsory study plan

Occurrence in special blocks

Block nameAcademic yearForm of studyStudy language YearWSType of blockBlock owner

Assessment of instruction

Předmět neobsahuje žádné hodnocení.