653-3171/01 – Metody přípravy nanostruktur a materiálů (MPNM)
| Garantující katedra | Katedra materiálového inženýrství a recyklace | Kredity | 6 |
| Garant předmětu | Ing. Lukáš Halagačka, Ph.D. | Garant verze předmětu | Ing. Lukáš Halagačka, Ph.D. |
| Úroveň studia | pregraduální nebo graduální | | |
| | Jazyk výuky | čeština |
| Rok zavedení | 2024/2025 | Rok zrušení | |
| Určeno pro fakulty | FMT | Určeno pro typy studia | navazující magisterské |
Cíle předmětu vyjádřené dosaženými dovednostmi a kompetencemi
V předmětu se student seznámí s principy přípravy a využití tenkých vrstev. Předmět je zaměřen na technologicky náročné procesy přípravy materiálů metodami depozice z fyzikálních a chemických par a odvozenými procesy, seznámí se s metodami kontroly a pozorování růstových procesů a litografickými procesy pro výrobu polovodičových součástek s vysokou integrací.
Vyučovací metody
Přednášky
Cvičení (v učebně)
Experimentální práce v laboratoři
Anotace
Náplní předmětu jsou metody přípravy tenkých vrstev magnetronovým naprašováním a depozicí z chemických par. Zabývá se rovněž metodami monitorování průběhu růstu vrstvy, metodami přípravy a charakterizace nanostruktur.
Povinná literatura:
GURNETT, Donald A.; BHATTACHARJEE, Amitava. Introduction to plasma physics: With space, laboratory and astrophysical applications. Cambridge University Press, 2017.
SLAVÍČEK, Pavel; ŠTĚPÁNOVÁ, Vlasta; KELAR, Jakub. Vakuová fyzika 1. 2016.
NEE, Andrew Yeh Ching. Handbook of manufacturing engineering and technology. Springer Publishing Company, Incorporated, 2014.
Doporučená literatura:
GLEITER, Herbert. Nanostructured materials: basic concepts and microstructure. Acta materialia, 2000, 48.1: 1-29.
MADKOUR, Loutfy H. Nanoelectronic materials: fundamentals and applications. Springer, 2019.
Další studijní materiály
Forma způsobu ověření studijních výsledků a další požadavky na studenta
Zápočet formou prezentace semestrálního projektu. Zkouška sestává z písemné a ústní části.
E-learning
Další požadavky na studenta
Systematická domácí příprava na výuku.
Prerekvizity
Předmět nemá žádné prerekvizity.
Korekvizity
Předmět nemá žádné korekvizity.
Osnova předmětu
1. Metody přípravy tenkých vrstev a nanostrukturovaných materiálů, podmínky přípravy materiálů
2. Vakuové systémy, fyzika plasmatu a chemické procesy
3. Metody depozice z fyzikálních par (PVD)
4. Depozice z chemických par (CVD) pro přípravu epitaxních a nanostrukturovaných materiálů
5. Depozice z chemických par v prostředí plasmy a odvozené CVD metody (MOCVD, LPCVD, ALD)
6. Metody růstu vrstev, epitaxní růst
7. Metody in-situ monitorování průběhu růstu materiálu, optické, rentgenové a elektronové difrakce
8. Substráty a fotorezisty nejen pro polovodičovou výrobu, jejich výroba a vlastnosti
9. Litografie pokročilých grayscale struktur
10. Litografické metody Lift-off, wet-etching a dry-etching
11. Charakterizace AFM, SEM, konfokální mikroskopie
12. Maskovací litografie MOSFET transistor
13. State of the Art polovodičové litografie
Podmínky absolvování předmětu
Výskyt ve studijních plánech
Výskyt ve speciálních blocích
Hodnocení Výuky
Předmět neobsahuje žádné hodnocení.