717-3903/01 – Pokročilé technologie přípravy nanostruktur-principy a aplikace (PTN)
| Garantující katedra | Katedra fyziky | Kredity | 4 |
| Garant předmětu | doc. Dr. Mgr. Kamil Postava | Garant verze předmětu | doc. Dr. Mgr. Kamil Postava |
| Úroveň studia | pregraduální nebo graduální | Povinnost | povinný |
| Ročník | 2 | Semestr | zimní |
| | Jazyk výuky | čeština |
| Rok zavedení | 2016/2017 | Rok zrušení | 2019/2020 |
| Určeno pro fakulty | USP | Určeno pro typy studia | navazující magisterské |
Cíle předmětu vyjádřené dosaženými dovednostmi a kompetencemi
Klasifikovat a identifikovat pokročilé technologie v nanostrukturách.
Formulovat základní principy přípravy a diagnostiky nanostruktur.
Posoudit výhody a nevýhody jednotlivých přístupů.
Predikovat nové trendy v aplikacích.
Vyučovací metody
Přednášky
Semináře
Individuální konzultace
Anotace
Předmět podává přehled pokročilých technologií zaměřených na depozici tenkých
vrstev a povlaků a přípravu nanostruktur, zejména v podmínkách vakua. Zaměřuje
se především na vysvětlení fyzikálních principů těchto procesů a
odpovídajících technologických a analytických zařízení a komponent (např.
zdrojů svazků elektronů, iontů a neutrálních částic).
Povinná literatura:
BRODIE, I., MURAY, J. J.: The Physics of Micro/Nano-Fabrication, Plenum
Press, New York, 1992;
VÁLYI, L.: Atom and Ion Sources, John Wiley and Sons Ltd (March 1, 1978);
ECKERTOVÁ, L.: Physics of Thin Films, Plenum Press, New York, 1986;
FELDMAN, L. C., MAYER, J. W.: Fundamentals of Surface and Thin Film Analysis,
Elsevier Science Publishing Co., Inc., 1986;
RIVIERE, J. C.: Surface Analytical Techniques, Clarendon Press, Oxford, 1990.
Doporučená literatura:
BRODIE, I., MURAY, J. J.: The Physics of Micro/Nano-Fabrication, Plenum
Press, New York, 1992;
VÁLYI, L.: Atom and Ion Sources, John Wiley and Sons Ltd (March 1, 1978);
ECKERTOVÁ, L.: Physics of Thin Films, Plenum Press, New York, 1986;
FELDMAN, L. C., MAYER, J. W.: Fundamentals of Surface and Thin Film Analysis,
Elsevier Science Publishing Co., Inc., 1986;
RIVIERE, J. C.: Surface Analytical Techniques, Clarendon Press, Oxford, 1990.
Forma způsobu ověření studijních výsledků a další požadavky na studenta
E-learning
Další požadavky na studenta
xxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxx
Prerekvizity
Předmět nemá žádné prerekvizity.
Korekvizity
Předmět nemá žádné korekvizity.
Osnova předmětu
Obsahové zaměření:
- Úvod do fyzikálních technologií. Charakteristika a přehled vybraných
fyzikálních technologií. Využití fyzikálních technologií v průmyslu.
- Principy fyzikálních technologií, technologických a analytických zařízení.
Principy růstu vrstev. Interakce částic s látkou (elektrony, ionty, neutrální
částice fotony). Zdroje elektronů, parametry a výpočet zdrojů elektronu.
Zdroje iontů, parametry a výpočet zdrojů iontů. Prvky elektronových a
iontových optických systémů. Zdroje atomů a molekul, parametry a výpočet
zdrojů iontů. Plazma jako zdroj chemicky aktivních částic. Zdroje fotonů,
optické systémy.
- Fyzikální technologie. Depozice tenkých vrstev a povlaků, tvorba
nanostruktur (napařování, MBE, CVD, PECVD, magnetronové a iontové naprašování,
přímá iontová depozice, laserová ablace aj.). Legování (difúze, iontová
implantace). Litografické metody. Leptání povrchů, tenkých vrstev a povlaků
(chemické leptání, plazmatické a iontové leptání).
- Analýza povrchů, tenkých vrstev a nanostruktur - přehled. Použití
jednotlivých metod (STM, AFM, TEM, SEM AES, RBS, ISS, SIMS, XPS, LEED, RHEED,
aj.). Nové trendy v pokročilých materiálových technologiích.
Podmínky absolvování předmětu
Výskyt ve studijních plánech
Výskyt ve speciálních blocích
Hodnocení Výuky