9360-0159/01 – Praktikum pokročilých technologií přípravy nanostruktur I (PPTPI)

Garantující katedraCentrum nanotechnologiíKredity3
Garant předmětudoc. Dr. Mgr. Kamil PostavaGarant verze předmětudoc. Dr. Mgr. Kamil Postava
Úroveň studiapregraduální nebo graduálníPovinnostpovinný
Ročník2Semestrzimní
Jazyk výukyčeština
Rok zavedení2019/2020Rok zrušení
Určeno pro fakultyFMTUrčeno pro typy studianavazující magisterské
Výuku zajišťuje
Os. čís.JménoCvičícíPřednášející
POS40 doc. Dr. Mgr. Kamil Postava
Rozsah výuky pro formy studia
Forma studiaZp.zak.Rozsah
prezenční Klasifikovaný zápočet 0+3

Cíle předmětu vyjádřené dosaženými dovednostmi a kompetencemi

xxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxx

Vyučovací metody

Semináře
Cvičení (v učebně)

Anotace

Cílem praktika pokročilých technologií přípravy nanostruktur je získání praktických dovedností v oblasti depozice tenkých vrstev metodou PVD a procesů laserové litografie. Bude využito výzkumných laboratoří a speciálních studentských technologických laboratoří.

Povinná literatura:

OHRING, M.: Materials Science of Thin Films. 2nd ed. San Diego: Academic Press, 2002. BRODIE, I., MURAY, J. J.: The Physics of Micro/Nano-Fabrication. Plenum Press, New York, 1992; VÁLYI, L.: Atom and Ion Sources. John Wiley and Sons Ltd (March 1, 1978); MACK, C. A.: Field guide to optical lithography, SPIE Press 2006.

Doporučená literatura:

LIN, B. J.: Optical Lithography, SPIE Press 2010. ECKERTOVÁ, L.: Physics of Thin Films. Plenum Press, New York, 1986 FELDMAN, L. C., MAYER, J. W.: Fundamentals of Surface and Thin Film Analysis. Elsevier Science Publishing Co., Inc., 1986

Forma způsobu ověření studijních výsledků a další požadavky na studenta

Hodnocení prezentace výsledků přípravy struktur. Kontrola a konzultace zpracování zprávy o přípravě vzorků.

E-learning

Další požadavky na studenta

Příprava tenkých vrstev a mikrostruktur, práce v čistých prostorách.

Prerekvizity

Předmět nemá žádné prerekvizity.

Korekvizity

Předmět nemá žádné korekvizity.

Osnova předmětu

Laboratorní cvičení zahrnuje přípravu vrstev kovů, polovodičů a dielektrik a zvládnutí litografického procesu. Je založeno na následujících dílčích celcích: 1. Příprava tenkých vrstev metodou PVD – zvládnutí procesu kontroly depozice magnetronovým naprašováním a evaporací, práce s vákuovým systémem, počítačového řízení procesu 2. Litografický proces zahrnující příprava fotorezistu metodou spin coating, zadání a expozice struktury pomocí laserového litografu, vyvolání a finalizace litografického procesu 3. Kontrola připravovaných struktur ex-situ metodami – elipsometrie, spektroskopie, optická mikroskopie, AFM, elektronová mikroskopie

Podmínky absolvování předmětu

Prezenční forma (platnost od: 2019/2020 zimní semestr)
Název úlohyTyp úlohyMax. počet bodů
(akt. za podúlohy)
Min. počet bodů
Klasifikovaný zápočet Klasifikovaný zápočet 100  51
Rozsah povinné účasti: Odevzdání protokolu za jednotlivá cvičení v určených termínech.

Zobrazit historii

Výskyt ve studijních plánech

Akademický rokProgramObor/spec.Spec.ZaměřeníFormaJazyk výuky Konz. stř.RočníkZLTyp povinnosti
2021/2022 (N0719A270002) Nanotechnologie P čeština Ostrava 2 povinný stu. plán
2020/2021 (N0719A270002) Nanotechnologie P čeština Ostrava 2 povinný stu. plán
2019/2020 (N0719A270002) Nanotechnologie P čeština Ostrava 2 povinný stu. plán

Výskyt ve speciálních blocích

Název blokuAkademický rokForma studiaJazyk výuky RočníkZLTyp blokuVlastník bloku